备，也是现阶段国产光刻攻坚的主战场。

从国产替代进度来看，干式设备已经完全实现自主可控，技术、产能、供应链都十分成熟。浸没式设备已经完成整机架构落地，现阶段主要迭代方向不是原理突破，而是长期量产稳定性、缺陷管控、良率优化等工程细节打磨。

未来几年，国内特色工艺、存储工艺持续扩产，浸没式光刻设备的国产化渗透率会持续快速提升，成为整条设备赛道最大的增量来源。

简单总结：空气介质定义成熟制程，水介质撑起半壁先进制程。看懂干湿式光刻的区别，才算真正看懂国产光刻当下的迭代节奏。
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下期连载05，深度拆解WS工件台核心感知系统，详解RA倾角传感器、IS形貌传感器如何实现纳米级动态误差补偿。
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