光刻机的技术原理并不复杂，核心瓶颈是此前缺乏试错机会，最近中报和光刻机零部件厂商交流下来，高管们均表示目前国内有举国体制支持，国产DUV光刻机技术上已实现攻克，当前核心瓶颈是整机集成良率较低，会影响下游芯片制造良率，该问题主要是由于生产和使用量少、反馈不足导致，需要3-5年的时间逐步迭代提升，若中欧关系紧张导致光刻机出口受限，国产化进程将进一步加速，晶圆厂采购国产光刻机可获得地方政府补贴及低息专项贷款，后续还有望将采购国产光刻机与晶圆厂扩建路条挂钩，国产化进程将快速推进。#茂莱光学#汇成真空#菲沃泰