光刻胶涨价+长江存储!南大光电!
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一、三大供货产品线(均已量产供货)
1. MO源 / ALD前驱体
超高纯前驱材料,用于3D NAND薄膜堆叠工艺,适配长存232层、294层先进堆叠,长期稳定大批量供货,属于核心耗材,晶圆产能越高消耗量越大。
2. 高纯电子特气(磷烷、砷烷、三氟化氮等)
用于刻蚀、清洗、掺杂工艺,是南大光电传统优势业务,和长存签订长期供货框架,持续上机消耗。
3. ArF(193nm)光刻胶
完
一、三大供货产品线(均已量产供货)
1. MO源 / ALD前驱体
超高纯前驱材料,用于3D NAND薄膜堆叠工艺,适配长存232层、294层先进堆叠,长期稳定大批量供货,属于核心耗材,晶圆产能越高消耗量越大。
2. 高纯电子特气(磷烷、砷烷、三氟化氮等)
用于刻蚀、清洗、掺杂工艺,是南大光电传统优势业务,和长存签订长期供货框架,持续上机消耗。
3. ArF(193nm)光刻胶
完
