别被“红花”误导！国产光刻机默默耕耘，产业突破远超市场预期
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别被“红花”误导！国产光刻机默默耕耘，产业突破远超市场预期
近期的光刻机板块，俨然上演了一场“资本市场全凭想象，产业端悄然突破”的戏码。从外媒爆料宇量升DUV测试后，板块陷入消息真空，到上海微电子换门牌时的一朵红花被过度炒作成“重组借壳利好”，市场的想象力被无限放大，却唯独忽略了国产光刻机产业链正以肉眼可见的速度飞速发展。这份调研报告结合机构实地调研与产业实际成果，剖析国产光刻机的真实进展，为你揭示板块调整背后的中长期投资逻辑究竟何在。
先泼盆冷水：那些被资本市场过度解读的“伪利好”,资本市场的想象力，在光刻机板块展现得可谓淋漓尽致。近期的两个热门话题，实则都是“竹篮打水一场空”。
上海微电子的“红花喜事”：被各路资金解读为“重大突破、借壳重组”的门牌红花，实际上不过是换门牌以及首次举办供应商大会，与资本层面的利好毫无关联。该供应商大会仅围绕28nm DUV光刻机产业链配套展开，属于产业端的常规操作。
Mate80发布会未提及芯片≠技术停滞：发布会对芯片只字未提，并非国产芯片技术毫无进展，而是高端制程突破现阶段本就以“低调推进”为主，避免技术曝光引发外部不必要的限制，这并非板块缺乏催化因素的信号。
市场之所以陷入“靠想象炒股”的困境，关键在于板块短期内缺乏明显的利好消息，再加上四季度机构进行调仓、前期获利资金套现，以及整体市场风格的影响，才导致了一个多月的调整，但这绝不意味着产业端停止了前进的步伐。
硬核突破：两大龙头携手并进，国产DUV加速前行,当前，国产高端DUV光刻机的研发与量产由宇量升和上海微电子两大企业主导。二者各有侧重点，同步实现突破，从实验室走向量产的节奏远超市场预期，并且均实现了全国产设备、辅料和气体的全链条配套，彻底摆脱了对国外“芯”的依赖。
宇量升：独创技术路线，先进制程良率快速提升.作为新凯莱持股50%的子公司，宇量升是国产光刻机先进制程的“排头兵”，其研发投入堪称“不惜成本”：从海外引进数百名顶尖科研人才，提供高薪、人才房和安家费等优厚条件，在深圳建设封闭式花园研发中心，科研人员可直接落户街道办，甚至引入深圳外国语学校分校解决子女教育问题，不设业绩考核，只要求攻克卡脖子难题。如此投入，技术突破自然是水到渠成。
1.5nm等效制程：10月外媒报道的中芯测试已取得实际成果，技术升级顺利打通。目前初期良率虽不足30%，但产业端已明确明年将朝着70%良率的目标迈进。其独创的大功率固态激光器路线，直接取代了 ASML 的气态激光器，功率更大、效率更高；搭配太空合成晶体，实现了聚光更精准、透射率更优。这一技术路线已成功绕开海外专利壁垒，成为国产光刻机的核心优势。
2.7nm等效制程：已实现轻松突破，良率从去年的不足30%提升至10月的77%。产业端明确表示明年将实现大规模量产，成为国产高端芯片的核心支撑，并且该制程已悄然应用于近期发布的国产高端手机芯片中。
重要科普：并非直接制造出5nm/7nm DUV光刻机，而是通过45nm干式DUV或28nm浸没式DUV，结合多重曝光和多次薄膜沉积工艺，实现等效5nm/7nm的芯片制造。这是当前国产光刻机突破先进制程的最佳方案。
上海微电子：28nm浸没式DUV量产落地，订单供不应求,如果说宇量升主要致力于先进制程研发，那么上海微电子就是国产光刻机量产落地的“主力军”。其28nm浸没式DUV的突破，标志着国产光刻机正式从验证阶段迈向商业化。而长存三期的成立，更是为其开辟了巨大的市场需求。
量产进度：四季度已正式进入量产阶段，陆续向客户交付多台设备。国产浸润式28nm DUV完成了从验证到小批量生产的跨越，2025年的小批量订单已下达，正逐步实现量产转化。
订单与产能：当前最大的问题并非“寻找客户”，而是“扩大产能”。 每台设备在生产阶段便已确定客户，2025年的订单数量已达数台，2026年的出货量有望超过10台，2027 - 2030年将迎来爆发式增长。
2026 - 2028年，28nm DUV将进入持续放量阶段，成为国产成熟制程芯片制造的核心装备。
市场需求支撑方面：长存因被列入海外限制清单，无法使用海外设备，成为纯国产生产线的核心需求方。其扩产直接带动了上海微电子设备的批量采购。2025年国内DUV光刻机的总需求达200台，到2030年将增至600台，国产替代的空间极为巨大。
产业链共振：上游零部件量价齐升，业绩弹性即将彰显。光刻机的突破绝非单一企业的孤立前行，而是全产业链的协同奋进。从近期上市公司三季报机构调研信息可知，国产光刻机上游核心零部件企业已迎来订单量与价值量的双重增长，产能供不应求成为常见态势，明年一季度将迎来业绩的集中释放。
光学镜片：龙头满负荷产销，低端订单外溢。光刻物镜镜片作为光刻机的“眼睛”，价值量占比极高。当前，龙头企业光刻业务收入年内已实现显著增长，对于明年的展望持续乐观：产线全部排满，仅生产高端物镜镜片，将低端订单直接转移给二线企业；而二线企业也已开始加大投入，年底前新设备将到货，设备调试完成后，成熟制程光刻机物镜镜片产能将直接翻倍，配套能力大幅增强。
镀膜环节：大客户追加订单，量价齐升已成定局。为光刻机物镜镜头镀膜的上市公司，已收到大客户提高镀膜设备采购目标的明确需求，且业务从DUV镀膜订单向更高端领域持续拓展，整体呈现量价齐升的局面。
短期业绩未体现的核心原因，是镀膜设备从生产、发货、交付到验收、确认收入，存在一定的周期，但产业端已明确，这部分订单的业绩弹性将在2026年一季度集中显现，成为板块的重要业绩催化剂。
理性看待：EUV仍处于研发初期，DUV才是当前核心主线。市场近期不乏“国产EUV即将取得突破”的声音，但这份期待需要回归理性：目前国产EUV仅处于原理机搭建阶段，两三年内完全突破的可能性极低，想要实现商业化量产，仍需无数工程师的持续钻研。
而当前国产光刻机的核心逻辑，是DUV的全面突破与国产替代：一方面，28nm浸没式DUV已实现量产，7nm/5nm等效制程良率快速提升，足以解决国内90%以上的芯片瓶颈问题，覆盖手机、汽车电子、AI、物联网等绝大多数应用场景；另一方面，全球半导体市场中，28nm及以上成熟制程芯片仍占70%的需求，这一市场正是国产DUV的核心领域。
产业端明确了清晰的发展路径：DUV用于追赶，EUV用于超越。当全国产EUV真正取得突破时，光刻机板块的“自主可控”逻辑可能会有所弱化，但这一过程仍需漫长的时间，而在此之前，DUV的国产替代将持续为板块提供中长期的投资逻辑。
板块调整原因与中长期投资逻辑
近期光刻机板块的调整，并非产业端出现问题，而是多重短期因素的叠加；市场环境与机构调仓；四季度整体市场风格较为谨慎，机构为完成年度考核进行调仓减仓，对半导体等成长板块的配置比例有所降低。
前期预期过高，获利资金兑现：此前市场对国产光刻机的预期已充分体现在股价中，部分获利资金借板块调整实现收益兑现；消息真空导致情绪低迷：板块短期缺乏明显的利好刺激，市场情绪陷入低迷，甚至出现“翻炒旧闻”的非理性行为。
而从中长期来看，光刻机板块的核心投资逻辑从未改变，且正不断强化。自主可控的国家战略，光刻机作为半导体制造领域的“工业明珠”，是国家集成电路产业规划中首当其冲的卡脖子技术。中央财政累计投入超500亿元专项资金予以支持，政策红利将持续释放。
AI+自主可控双轮驱动：AI浪潮引发芯片需求呈爆发式增长，加之海外技术限制，国内晶圆厂对国产光刻机的需求极为刚性。长存、中芯国际等龙头企业均明确表示要提升国产设备采购比例。产业链全面突破，业绩逐步落地：从整机制造到上游核心零部件，国产光刻机全产业链均实现关键突破。并且，上游企业的订单量与价格双双上升，业绩弹性预计将在2026年一季度释放，为该板块提供基本面支撑。
巨大的国产替代空间：2025年国内DUV光刻机国产化率仍处于较低水平，而2025 - 2030年国内DUV需求将从200台增加至600台，国产设备的市场份额将持续扩大，未来五年是国产替代的黄金时期。
投资建议：摒弃短期博弈，把握产业主线。对于光刻机板块的投资，我们建议摒弃基于短期消息面的博弈，聚焦产业端的实际进展，避免被“噱头”这类虚假利好干扰节奏，同时也不要因板块短期调整而过度悲观。
关注核心龙头：重点布局上海微电子（28nm DUV量产）、宇量升背后的新凯莱（先进制程研发）等整机制造相关标的，把握量产落地与先进制程突破的核心机遇。
布局上游高弹性环节：聚焦光学镜片、镀膜设备、双工件台、光刻胶等上游核心零部件，尤其是已收到大客户追加订单、业绩弹性即将释放的标的，如茂莱光学等光学镜片龙头企业，以及镀膜环节的上市公司。
中长期持有，忽略短期波动：光刻机的技术突破与国产替代是一个长期过程，板块股价难免会出现短期波动，但产业端的进展正在持续加速。建议以中长期视角进行布局，等待业绩与产业进展的双重催化。随着年底机构考核结束，资金将逐步回流市场并布局2026年产业方向，而国产光刻机产业链的持续突破，大概率会成为下一阶段市场的核心催化因素之一。当前板块正处于股价低迷且预期处于底部的状态，正是布局中长期机会的窗口期。那些真正扎根产业、实现技术突破的企业，终将在市场中实现价值回归。
写在最后：国产光刻机的突破，绝非一蹴而就之事。从0到1的跨越历经数十年，从1到N的量产仍需时日。资本市场需多一些耐心，少一些不切实际的想象。毕竟，那些默默扎根实验室的工程师，那些不计成本投入的企业，才是国产光刻机真正的底气所在，而这份底气，终将成为该板块最坚实的支撑。
近期的光刻机板块，俨然上演了一场“资本市场全凭想象，产业端悄然突破”的戏码。从外媒爆料宇量升DUV测试后，板块陷入消息真空，到上海微电子换门牌时的一朵红花被过度炒作成“重组借壳利好”，市场的想象力被无限放大，却唯独忽略了国产光刻机产业链正以肉眼可见的速度飞速发展。这份调研报告结合机构实地调研与产业实际成果，剖析国产光刻机的真实进展，为你揭示板块调整背后的中长期投资逻辑究竟何在。
先泼盆冷水：那些被资本市场过度解读的“伪利好”,资本市场的想象力，在光刻机板块展现得可谓淋漓尽致。近期的两个热门话题，实则都是“竹篮打水一场空”。
上海微电子的“红花喜事”：被各路资金解读为“重大突破、借壳重组”的门牌红花，实际上不过是换门牌以及首次举办供应商大会，与资本层面的利好毫无关联。该供应商大会仅围绕28nm DUV光刻机产业链配套展开，属于产业端的常规操作。
Mate80发布会未提及芯片≠技术停滞：发布会对芯片只字未提，并非国产芯片技术毫无进展，而是高端制程突破现阶段本就以“低调推进”为主，避免技术曝光引发外部不必要的限制，这并非板块缺乏催化因素的信号。
市场之所以陷入“靠想象炒股”的困境，关键在于板块短期内缺乏明显的利好消息，再加上四季度机构进行调仓、前期获利资金套现，以及整体市场风格的影响，才导致了一个多月的调整，但这绝不意味着产业端停止了前进的步伐。
硬核突破：两大龙头携手并进，国产DUV加速前行,当前，国产高端DUV光刻机的研发与量产由宇量升和上海微电子两大企业主导。二者各有侧重点，同步实现突破，从实验室走向量产的节奏远超市场预期，并且均实现了全国产设备、辅料和气体的全链条配套，彻底摆脱了对国外“芯”的依赖。
宇量升：独创技术路线，先进制程良率快速提升.作为新凯莱持股50%的子公司，宇量升是国产光刻机先进制程的“排头兵”，其研发投入堪称“不惜成本”：从海外引进数百名顶尖科研人才，提供高薪、人才房和安家费等优厚条件，在深圳建设封闭式花园研发中心，科研人员可直接落户街道办，甚至引入深圳外国语学校分校解决子女教育问题，不设业绩考核，只要求攻克卡脖子难题。如此投入，技术突破自然是水到渠成。
1.5nm等效制程：10月外媒报道的中芯测试已取得实际成果，技术升级顺利打通。目前初期良率虽不足30%，但产业端已明确明年将朝着70%良率的目标迈进。其独创的大功率固态激光器路线，直接取代了 ASML 的气态激光器，功率更大、效率更高；搭配太空合成晶体，实现了聚光更精准、透射率更优。这一技术路线已成功绕开海外专利壁垒，成为国产光刻机的核心优势。
2.7nm等效制程：已实现轻松突破，良率从去年的不足30%提升至10月的77%。产业端明确表示明年将实现大规模量产，成为国产高端芯片的核心支撑，并且该制程已悄然应用于近期发布的国产高端手机芯片中。
重要科普：并非直接制造出5nm/7nm DUV光刻机，而是通过45nm干式DUV或28nm浸没式DUV，结合多重曝光和多次薄膜沉积工艺，实现等效5nm/7nm的芯片制造。这是当前国产光刻机突破先进制程的最佳方案。
上海微电子：28nm浸没式DUV量产落地，订单供不应求,如果说宇量升主要致力于先进制程研发，那么上海微电子就是国产光刻机量产落地的“主力军”。其28nm浸没式DUV的突破，标志着国产光刻机正式从验证阶段迈向商业化。而长存三期的成立，更是为其开辟了巨大的市场需求。
量产进度：四季度已正式进入量产阶段，陆续向客户交付多台设备。国产浸润式28nm DUV完成了从验证到小批量生产的跨越，2025年的小批量订单已下达，正逐步实现量产转化。
订单与产能：当前最大的问题并非“寻找客户”，而是“扩大产能”。 每台设备在生产阶段便已确定客户，2025年的订单数量已达数台，2026年的出货量有望超过10台，2027 - 2030年将迎来爆发式增长。
2026 - 2028年，28nm DUV将进入持续放量阶段，成为国产成熟制程芯片制造的核心装备。
市场需求支撑方面：长存因被列入海外限制清单，无法使用海外设备，成为纯国产生产线的核心需求方。其扩产直接带动了上海微电子设备的批量采购。2025年国内DUV光刻机的总需求达200台，到2030年将增至600台，国产替代的空间极为巨大。
产业链共振：上游零部件量价齐升，业绩弹性即将彰显。光刻机的突破绝非单一企业的孤立前行，而是全产业链的协同奋进。从近期上市公司三季报机构调研信息可知，国产光刻机上游核心零部件企业已迎来订单量与价值量的双重增长，产能供不应求成为常见态势，明年一季度将迎来业绩的集中释放。
光学镜片：龙头满负荷产销，低端订单外溢。光刻物镜镜片作为光刻机的“眼睛”，价值量占比极高。当前，龙头企业光刻业务收入年内已实现显著增长，对于明年的展望持续乐观：产线全部排满，仅生产高端物镜镜片，将低端订单直接转移给二线企业；而二线企业也已开始加大投入，年底前新设备将到货，设备调试完成后，成熟制程光刻机物镜镜片产能将直接翻倍，配套能力大幅增强。
镀膜环节：大客户追加订单，量价齐升已成定局。为光刻机物镜镜头镀膜的上市公司，已收到大客户提高镀膜设备采购目标的明确需求，且业务从DUV镀膜订单向更高端领域持续拓展，整体呈现量价齐升的局面。
短期业绩未体现的核心原因，是镀膜设备从生产、发货、交付到验收、确认收入，存在一定的周期，但产业端已明确，这部分订单的业绩弹性将在2026年一季度集中显现，成为板块的重要业绩催化剂。
理性看待：EUV仍处于研发初期，DUV才是当前核心主线。市场近期不乏“国产EUV即将取得突破”的声音，但这份期待需要回归理性：目前国产EUV仅处于原理机搭建阶段，两三年内完全突破的可能性极低，想要实现商业化量产，仍需无数工程师的持续钻研。
而当前国产光刻机的核心逻辑，是DUV的全面突破与国产替代：一方面，28nm浸没式DUV已实现量产，7nm/5nm等效制程良率快速提升，足以解决国内90%以上的芯片瓶颈问题，覆盖手机、汽车电子、AI、物联网等绝大多数应用场景；另一方面，全球半导体市场中，28nm及以上成熟制程芯片仍占70%的需求，这一市场正是国产DUV的核心领域。
产业端明确了清晰的发展路径：DUV用于追赶，EUV用于超越。当全国产EUV真正取得突破时，光刻机板块的“自主可控”逻辑可能会有所弱化，但这一过程仍需漫长的时间，而在此之前，DUV的国产替代将持续为板块提供中长期的投资逻辑。
板块调整原因与中长期投资逻辑
近期光刻机板块的调整，并非产业端出现问题，而是多重短期因素的叠加；市场环境与机构调仓；四季度整体市场风格较为谨慎，机构为完成年度考核进行调仓减仓，对半导体等成长板块的配置比例有所降低。
前期预期过高，获利资金兑现：此前市场对国产光刻机的预期已充分体现在股价中，部分获利资金借板块调整实现收益兑现；消息真空导致情绪低迷：板块短期缺乏明显的利好刺激，市场情绪陷入低迷，甚至出现“翻炒旧闻”的非理性行为。
而从中长期来看，光刻机板块的核心投资逻辑从未改变，且正不断强化。自主可控的国家战略，光刻机作为半导体制造领域的“工业明珠”，是国家集成电路产业规划中首当其冲的卡脖子技术。中央财政累计投入超500亿元专项资金予以支持，政策红利将持续释放。
AI+自主可控双轮驱动：AI浪潮引发芯片需求呈爆发式增长，加之海外技术限制，国内晶圆厂对国产光刻机的需求极为刚性。长存、中芯国际等龙头企业均明确表示要提升国产设备采购比例。产业链全面突破，业绩逐步落地：从整机制造到上游核心零部件，国产光刻机全产业链均实现关键突破。并且，上游企业的订单量与价格双双上升，业绩弹性预计将在2026年一季度释放，为该板块提供基本面支撑。
巨大的国产替代空间：2025年国内DUV光刻机国产化率仍处于较低水平，而2025 - 2030年国内DUV需求将从200台增加至600台，国产设备的市场份额将持续扩大，未来五年是国产替代的黄金时期。
投资建议：摒弃短期博弈，把握产业主线。对于光刻机板块的投资，我们建议摒弃基于短期消息面的博弈，聚焦产业端的实际进展，避免被“噱头”这类虚假利好干扰节奏，同时也不要因板块短期调整而过度悲观。
关注核心龙头：重点布局上海微电子（28nm DUV量产）、宇量升背后的新凯莱（先进制程研发）等整机制造相关标的，把握量产落地与先进制程突破的核心机遇。
布局上游高弹性环节：聚焦光学镜片、镀膜设备、双工件台、光刻胶等上游核心零部件，尤其是已收到大客户追加订单、业绩弹性即将释放的标的，如茂莱光学等光学镜片龙头企业，以及镀膜环节的上市公司。
中长期持有，忽略短期波动：光刻机的技术突破与国产替代是一个长期过程，板块股价难免会出现短期波动，但产业端的进展正在持续加速。建议以中长期视角进行布局，等待业绩与产业进展的双重催化。随着年底机构考核结束，资金将逐步回流市场并布局2026年产业方向，而国产光刻机产业链的持续突破，大概率会成为下一阶段市场的核心催化因素之一。当前板块正处于股价低迷且预期处于底部的状态，正是布局中长期机会的窗口期。那些真正扎根产业、实现技术突破的企业，终将在市场中实现价值回归。
写在最后：国产光刻机的突破，绝非一蹴而就之事。从0到1的跨越历经数十年，从1到N的量产仍需时日。资本市场需多一些耐心，少一些不切实际的想象。毕竟，那些默默扎根实验室的工程师，那些不计成本投入的企业，才是国产光刻机真正的底气所在，而这份底气，终将成为该板块最坚实的支撑。
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