第五篇 电子专用材料核心公司

一、半导体硅片／衬底材料（芯片基底核心材料）沪硅产业：国内唯一规模化量产12英寸抛光硅片、外延片、 SOI 硅片企业，国产替代核心龙头。立昂微：布局6/8/12英寸硅抛光片、外延片，功率硅片＋逻辑大硅片双赛道，产能持续扩张。有研硅：半导体硅电极、8/12英寸硅片、硅外延材料供应商，覆盖刻蚀、晶圆制造场景。神工股份：单晶硅刻蚀电极龙头，配套半导体刻蚀设备耗材，布局大尺寸硅片业务。 TOL 中环：8/12英寸半导体硅片量产，兼顾光伏硅片，硅片产能持续扩产。

二、第三代／第二代化合物半导体衬底材料
天岳先进：碳化硅（ SiC ）衬底龙头，半绝缘／导电型 SiC 村底量产，适配车规功率芯片、射频芯片。
露笑科技：布局碳化硅长晶、村底、外延全产业链，车规 SiC 村底批量供货。
云南锗业：磷化铟( InP )、锗衬底龙头，光通信、红外、射频芯片核心村底材料。三安光电：砷化镍、氮化镍、碳化硅外延片，射频、 MiniLED 、功率半导体村底一体化企业。

三、光刻胶及配套电子化学品（芯片图形曝光核心材料）
南大光电：国内唯一量产 ArF 干式／浸没式高端光刻胶企业，同步布局 MO 源、电子特气。彤程新材： KrF 光刻胶国内龙头，旗下北京科华深耕 g / i 线、 KrF 光刻胶，配套光刻配套试剂。品瑞电材： g / i 线光刻胶、显影液、剥离液、高纯双氧水，湿电子化学品＋光刻胶双布局。容大感光： PCB 光刻胶＋半导体 g / i 线光刻胶双主业，感光树脂自主生产。
雅克科技：光刻胶配套特种湿化学品、光刻胶分装服务商，布局 KrF 光刻胶，覆盖国内头部晶圆厂。
上海新阳：半导体清洗液、光刻胶配套剥离液， ArF 光刻胶研发推进中。
广信材料： PCB 光刻胶、感光油墨，配套电路板图形制作材料。
强力新材：光刻胶光引发剂核心供应商，为光刻胶企业提供上游感光原料。

四、电子特种气体（晶圆沉积、刻蚀、掺杂刚需耗材）
华特气体：国内唯一通过 ASML 认证光刻气企业，覆盖刻蚀、掺杂、沉积全品类电子特气。
中船特气：高纯氟气、含氟电子特气龙头，适配先进制程刻蚀、清洗工艺。
金宏气体：大宗工业气体＋高纯电子特气，布局光刻气、硅烷、磷烷等产品。
巨化股份：电子级含氟特种气体，六氟化钨、三氟化氮等半导体清洗刻蚀气体。
昊华科技：高纯电子特气、氟化工电子材料，布局光刻配套特种气体。
南大光电： MO 源（金属有机源）、高纯磷烷、砷烷，化合物半导体外延核心气源。

五、高纯溅射靶材（芯片金属布线、薄膜导电材料）
江丰电子：半导体高纯铝、铜、钛、钽靶材龙头，切入台积电3/5/7nm先进制程供应链。
有研新材：高纯金属靶材、稀土靶材，覆盖显示面板、半导体两大赛道。
阿石创：面板靶材＋中小尺寸半导体靶材， ITO 、金属溅射靶材量产。隆华科技：钼靶、钒靶、半导体复合靶材，配套显示与存储芯片薄膜工艺。

六、 CMP 化学机械抛光材料（晶圆平坦化必备耗材）
安集科技： CMP 抛光液国产龙头，适配逻辑、存储、先进封装全制程抛光，打破海外垄断。
鼎龙股份：国内唯一高端 CMP 抛光垫量产企业，抛光垫市占国内超70%，同步布局光刻配套材料。华海清科： CMP 设备＋抛光耗材一体化布局，配套自有抛光机抛光液、抛光垫。

七、湿电子化学品（晶圆清洗、蚀刻、显影超高纯试剂）
江化微：G3/G4/G5级高纯硫酸、氨水、显影液，半导体＋面板湿化学品双赛道龙头。
兴福电子：电子级高纯磷酸、硝酸、蚀刻液，国内晶圆厂高纯试剂核心供应商。
格林达：电子级显影液、 TMAH 显影剂，面板与半导体通用湿化学品。
品瑞电材：G5级高纯双氧水、剥离液、蚀刻配套试剂，覆盖20余家头部晶圆厂。